製造現場において、フォトレジストの加熱処理中の温度変動や、洗浄後に残る水分は、単に生産効率を低下させるだけではありません。これらは部品の寸法を変化させ、歩留まりを悪化させます。私たちは、このような問題を解決するために、半導体用の赤外線ヒーターを開発しました。これにより、温度制御が適切に行われ、サイクルごとに一定の範囲内で温度が維持されます。
重要なポイント 私たちは、迅速に反応する石英素子を搭載した短波長赤外線放射体を使用しています。その結果、数秒以内に迅速かつ方向性のある加熱が実現され、ウェーハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれます。また、ロット間でも再現性が高く保たれます。この設計は、クラス1からクラス100のクリーンルーム環境にも適合し、粒子の発生がなく、ガス放出も少ないです。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変動は5％未満です。ループ制御により、正確な温度管理が可能であり、コンパクトなサイズのため、既存の装置に簡単に組み込むことができます。
実際の現場での効果 ウェーハの乾燥処理においては、集中した熱によって表面張力が迅速に低下し、残留物が除去されるため、高い生産効率が得られます。リソグラフィーにおいては、一貫したソフトベイクやハードベイクを実現するために、再現性の高い温度プロファイルが得られ、CDの精度やプロファイルの完全性が損なわれません。パッケージングにおいては、封止剤やアンダーフィルの硬化を促進し、オーブンでの処理時間を短縮し、エネルギー消費を削減します。洗浄や乾燥処理においては、傷や残留物が残らず、クリーンな状態になります。その結果、スペックのばらつきが少なく、安定したSPCが得られ、計画通りの稼働が可能になります。
注意点 これらのヒーターは、適切な電力供給と正確な温度センシングが必要です。放射体のスペクトルや出力密度は、使用する材料や装置の形状に合わせて選定する必要があります。設定温度に到達するまでのウォームアップ時間は短く、ビームパスのスペースや熱絶縁にも配慮する必要があります。正確な位置合わせとキャリブレーションを行えば、メンテナンスがほとんど不要で、再現性の高い結果が得られます。