時間を止める：なぜファブでIR乾燥がホットエアより優れているのか
ホットエアによる加熱方式について話しましょう。これは古い方法です。空気を加熱し、その空気が部品を温めることを期待するわけです。半導体製造においては、これは大変な問題です。空気は基本的に絶縁体であり、邪魔にしかなりません。結果として、部品が温まるのを永遠に待たなければならず、オーブンも多くのスペースを占有します。
なぜIRが効果的なのか
私たちが使用するのは認定済みの赤外線ランプです。これらは中間媒体を介さずに直接電磁波を基板に届けます。つまり、即座に加熱が行われます。これにより、「時間コスト」の計算もすぐに変わります。オーブンが所定の温度に達するのを待つ必要もありません。また、エネルギーが部品の表面に直接作用するため、乾燥サイクル自体も短縮されます。
切り替えの現実
もちろん、これが魔法のような解決策だとは言えません。適切な電源供給が必要です。IRランプは小さなスペースに多くのエネルギーを込めることができますが、その分電力消費も多くなります。古いホットエア式の装置を置き換える場合は、電圧を扱えるように制御パネルを再配線する必要があります。また、「視界範囲」の問題もあります。ホットエアは部品を布団のように包み込みますが、IRは懐中電灯のように機能します。つまり、ランプが部品を見えない場合は、加熱されません。これを解決するためには、反射鏡を使ったり、ランプを一緒に配置したりします。あらゆる角度からウェハーにエネルギーを当てる必要があります。そうしないと、冷たい部分ができて、生産効率が低下します。
生産効率の向上
最終的に、ファブの管理者は、より多くの部品を迅速に出荷したいと思っています。対流式の加熱をIRに置き換えることで、乾燥タンネルの長さを短縮したり、ベルトの速度を上げたりできます。同じ品質を保ちながら、ずっと速く処理できます。これにより、乾燥工程は厄介なボトルネックから高速な処理工程に変わります。これはワークフローにとって大きな助けになります。