機械を加熱するのではなく、ウェーハを直接加熱しましょう。 標準的な赤外線ランプの問題点は、熱があちこちに散乱してしまうことです。半導体の硬化処理室では、これは大きな問題です。適切な反射板がなければ、エネルギーのほとんどが装置の内壁に当たってしまいます。 その結果、装置の外殻が非常に高温になり、冷却...

化学ウェーハを加熱する際に、物質が危険な状態にならないようにするためには、どうすればよいでしょうか？ 正直に言って、IRランプを化学洗浄液の中で使うのは、まるで火遊びのようなものです。空気中には揮発性有機化合物や可燃性の蒸気が漂っています。ちょっとした火花や表面温度の急上昇があれば、単に製品がダメ...

ウェーハ処理用ツールをオーブンのように使わないでください ウェーハ処理用ツールを作るとき、最も避けたいのが、内部の壁面を加熱するためにエネルギーを無駄にすることです。 一般的な加熱要素は、あらゆる方向に熱を放出します。これでは混乱してしまいます。その結果、「高温の壁面」ができてしまい、装置のフレー...

ウェーハ処理用の高精度赤外線センサー 将来に向けて機能するファブを構築する際、熱というのは単なる熱ではありません。それは情報そのものです。重要なのは、ウェーハを加熱できるかどうかではなく、システムがその熱を正確に読み取り、意味を理解できるかどうかです。 ここで役立つのが高精度赤外線センサーです。こ...

ファブの現場において、フォトレジストの焼成処理は単なる工程の一つに過ぎません。それは、デザインが成功するか失敗するかが決まる重要な瞬間です。ソフトベイクやハードベイク時に1℃の偏差があるだけで、回路の幅が変わってしまいます。その結果、ウエハーには潜在的な欠陥が残り、それは電気試験時になって初めて明...

ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際に0.1°Cの温度変動が生じると、ウェーハの線幅が変わり、本来良品であるはずのウェーハが不良品になってしまいます。このような温度変動を根本的に防ぐために、チップオンウェーハ用の赤外線ランプが開発されました。これは、温度管理が厳しく、再現性こそが最も重要な...

ファブフロアでの常識 ウエハー乾燥やフォトレジストベーク中の0.1℃の温度逸脱が、ライン歩留まりを静かに損なうことは周知の通りです。ヒーターは単なる背景の箱ではなく、リソグラフィにおける寸法管理を支配する熱予算を設定します。私たちは、工程管理が絶対条件であり、予期せぬダウンタイムが直接ウエハーの廃...

包装フロアでは、温度トレーサビリティシートは言い訳を受け付けない。予熱プロファイルで0.5℃のずれがあれば、無鉛接合部に空洞が発生するか、あるいはダイシング後にのみ現れるフォトレジストのフットリングが発生する可能性がある。フラックス活性化は秒単位で進行し、熱予算が固定されている場合、プリヒーターは...