Mengurangkan Pelepasan Karbon dalam Proses Pembuatan Semikonduktor: Masalah Ozon
Jika anda pernah berada di fasiliti pengeluaran semikonduktor, anda pasti tahu betapa pentingnya kita memastikan suhu udara berada pada tahap yang sesuai. Namun, terdapat masalah yang timbul akibat penggunaan lampu inframerah biasa. Lampu tersebut cenderung untuk mengeluarkan cahaya dengan panjang gelombang di bawah 200nm, dan inilah punca masalahnya.
Cahaya tersebut menyebabkan pembentukan ozon di udara. Walaupun ini merupakan masalah kecil, tetapi kesannya yang lebih serius ialah kos tenaga yang tinggi. Sistem HVAC perlu bekerja lebih keras untuk membersihkan udara dan memastikan persekitaran yang selamat. Ini merupakan pembaziran tenaga yang besar.
Penyelesaiannya? Elakkan pembentukan ozon sama sekali.
Kita boleh lakukan ini dengan menggunakan kapsul kuarsa khusus atau lapisan pelindung yang berfungsi sebagai penghalang. Lapisan ini akan menahan cahaya dengan panjang gelombang 185nm – iaitu bahagian spektrum yang menyebabkan pemecahan molekul oksigen.
Anda masih boleh mendapatkan haba yang diperlukan, tetapi tanpa adanya produk sampingan kimia. Dengan cara ini, sistem pengendalian udara tidak perlu bekerja keras lagi, dan penggunaan tenaga juga berkurangan.
Sekarang, mari kita bincangkan tentang prestasi lampu tersebut. Lampu ini dapat meningkatkan suhu dengan cepat. Ini sangat berguna ketika proses pembakaran atau pengeringan wafer. Memandangkan tenaga disalurkan dalam bentuk sinar inframerah, haba tersebut akan sampai terus ke permukaan wafer.
Namun, perlu berhati-hati dengan kekuatan tenaga yang digunakan. Lampu tanpa ozon yang memiliki kuasa tinggi boleh merosakkan filamen lampu dengan cepat. Saya cadangkan agar lampu ini digabungkan dengan pengawal PID yang tepat. Ini akan membantu mengelakkan suhu daripada melampaui had yang ditetapkan, sekaligus melindungi peralatan dari kerosakan.
Yang paling baik ialah cara ini dapat membantu mencapai matlamat kelestarian alam sekitar. Ia merupakan penyelesaian yang praktikal untuk mengurangkan pelepasan karbon, tanpa perlu menghadapi masalah yang biasa berlaku dalam proses pengeluaran semikonduktor.