Hentikan amalan memanaskan dinding ruang vakum tersebut Memanaskan wafer di dalam ruang vakum merupakan proses yang sukar. Jika anda menggunakan...

Di lantai pengeluaran, prosedurnya sudah diketahui dengan jelas. Perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi...