Hentikan kebiasaan memanaskan seluruh bagian mesin, dan mulailah memanaskan wafer saja. Inilah masalah yang ada pada lampu inframerah biasa: mereka...

Menjaga Keamanan Saat Memanaskan Wafer Kimia Sejujurnya, menggunakan lampu IR untuk mencuci wafer kimia sama saja dengan bermain dengan api. Di udara...

Hentikan kebiasaan mengubah alat pemroses wafer menjadi “oven” Saat membangun alat pemroses wafer, hal terakhir yang diinginkan adalah membuang-buang...

Sensor Inframerah Berkualitas Tinggi untuk Proses Pengolahan Wafer Ketika Anda membangun pabrik yang siap untuk masa depan, panas bukan sekadar...

Di lini produksi, proses pemanasan fotoresist bukanlah sekadar langkah tambahan saja. Ini merupakan titik penentu apakah desain tersebut akan...

Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar 0,1°C selama proses pengeringan fotoresist dapat menyebabkan perubahan lebar garis-garis pada permukaan...

Di lantai fab, Anda sudah tahu prosedurnya: penyimpangan 0,1°C selama pengeringan wafer atau pemanggangan photoresist dapat diam-diam menurunkan...

Di lantai pengemasan, lembar jejak suhu tidak menerima alasan. Perubahan 0,5°C pada profil pra-pemanasan dan Anda akan menghadapi void pada sambungan...