Di lantai produksi, perubahan suhu sebesar 0,1°C selama proses pengeringan fotoresist dapat menyebabkan perubahan lebar garis-garis pada permukaan wafer, sehingga wafer yang seharusnya berkualitas baik justru menjadi limbah. Lampu inframerah tipe chip-on-wafer dirancang untuk mencegah perubahan suhu tersebut. Lampu ini dirancang untuk mengontrol suhu pada tingkat wafer, di mana ketersediaan energi sangat terbatas, dan tingkat repetibilitas merupakan syarat utama yang harus dipenuhi.
Apa yang penting secara teknis? Lampu ini menggunakan sumber cahaya inframerah dekat (NIR) berbasis kuarsa-halogen. Energi cahaya tersebut ditujukan langsung ke fotoresist dan lapisan tipis lainnya. Sistem ini mampu menjaga keseragaman suhu pada permukaan wafer hingga ±0,1°C, pada substrat dengan ukuran 150–300 mm. Waktu yang dibutuhkan untuk mencapai suhu target adalah kurang dari 2 detik. Tingkat repetibilitas suhu saat proses pengeringan berlangsung adalah ±0,5°C, sehingga dimensi-kDimensi kritis wafer tetap stabil.
Bagian kepala lampu dirancang agar cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan memiliki tingkat pelepasan gas yang rendah, dan jalur aliran udara dikendalikan dengan baik. Tidak ada partikel yang dihasilkan selama proses pengeringan berlangsung.
Mengapa sistem ini efektif dalam produksi? Dalam proses litografi, profil suhu tetap konstan—tidak ada daerah yang terlalu panas atau terlalu dingin. Dengan demikian, waktu yang diperlukan untuk memperbaiki kesalahan berkurang, sehingga tingkat produksi tetap tinggi. Penggunaan energi juga berkurang, karena lampu NIR hanya memanaskan lapisan film, bukan benda lainnya. Keandalan sistem ini mencapai puluhan ribu jam penggunaan, dan masa perawatan sistem berlangsung sesuai jadwal yang telah direncanakan, bukan karena adanya kerusakan mendadak.
Apa yang perlu dipertimbangkan? Lampu ini dapat digunakan dengan antarmuka SEMI standar. Namun, integrasinya membutuhkan penyesuaian pada bahan chuck dan geometri reflektor agar sesuai dengan kondisi pengeringan wafer. Anda perlu melakukan kalibrasi singkat untuk menentukan nilai emisivitas dan menentukan zona-zona yang perlu diproses.
Salah satu tantangan adalah adanya interferensi termal. Ketika berbagai jenis film diproses pada alat yang sama, diperlukan pembatasan pada zona-zona tertentu agar tidak terjadi interferensi termal.