Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan bersama alat vakum.

Thu, 23 Jul 2026 09:50:24 +0800

Hentikan amalan memanaskan dinding ruang vakum tersebut
Memanaskan wafer di dalam ruang vakum merupakan proses yang sukar. Jika anda menggunakan pemanas jenis radiasi biasa, haba akan tersebar ke merata-rata tempat. Ini menyebabkan kekacauan. Akibatnya, dinding ruang vakum menjadi panas. Alat semikonduktor yang mahal ini sebenarnya berfungsi sebagai “span” yang menyerap tenaga yang tidak diperlukan. Ini bukan sahaja membazir tenaga elektrik, tetapi juga menimbulkan risiko keselamatan bagi orang yang berada berdekatan dengan mesin tersebut. Selain itu, dinding ruang vakum juga boleh rosak akibat haba yang berlebihan. Ini tentu saja bukan situasi yang ideal.

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Thu, 18 Jun 2026 01:43:21 +0800

Di lantai pengeluaran, prosedurnya sudah diketahui dengan jelas. Perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi yang diperlukan dalam proses pengeluaran cip. Apabila pemanas inframerah dalam ruang vakum berfungsi dengan tidak efektif, bukan sahaja hasil pengeluaran akan terjejas, tetapi jadual pengeluaran juga akan terganggu. Kami telah membangunkan pemanas inframerah ini agar mampu memenuhi keperluan suhu yang diperlukan dalam proses pengeluaran cip moden, serta memenuhi spesifikasi peralatan semikonduktor. Pemanas ini juga sangat sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan yang kurang menghasilkan gas berbahaya dan reka bentuknya dapat mengelakkan kotoran daripada menempel pada cip. Kuasa yang dihasilkan oleh pemanas ini tetap stabil walaupun dalam keadaan vakum, dan profil suhu yang dihasilkan juga tetap konsisten walaupun beroperasi 24/7.

Vakum on Smart Quartz Infrared Heaters

Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan bersama alat vakum.

Pemanas inframerah untuk bilik vakum