Semikonduktor on Smart Quartz Infrared Heaters

Pemanasan menggunakan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Sat, 25 Jul 2026 03:08:33 +0800

Hentikan masalah lampu yang rosak daripada merosakkan hasil pengeluaran wafer anda
Dalam persekitaran pengeluaran semikonduktor yang memerlukan beban kerja yang tinggi, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah kecil yang menyusahkan. Ia merupakan bencana sebenar. Apabila tiub kuarsa pecah, serpihan kaca dan bahan kimia akan jatuh ke atas wafer tersebut. Dengan itu, keseluruhan batch wafer tersebut akan rosak. Selepas itu, tugas yang perlu dilakukan ialah membersihkan ruang pengeluaran tersebut selama berjam-jam. Tiada siapa yang mahu menghadapi situasi ini.

Wayar Teflon untuk pemanas semikonduktor

Thu, 23 Jul 2026 10:04:48 +0800

Berhenti bergantung pada cara pemanasan konvensional: Cara yang lebih baik untuk memanaskan wafer

Saya masih melihat banyak kilang semikonduktor yang menggunakan kaedah pemanasan udara panas. Ini merupakan cara yang biasa digunakan, terutamanya dalam fasiliti yang sudah lama dibina. Namun, mari kita akui bahawa kaedah ini sangat lambat.

Apabila kita menggunakan kaedah pemanasan konvensional, kita sebenarnya perlu memanaskan seluruh bilik hanya untuk memanaskan wafer tersebut. Prosesnya sangat lambat, dan ia juga membazir tenaga. Selain itu, ia akan mengurangkan masa pengeluaran setiap kali proses pengeluaran dilakukan.

Pemanas untuk bilik bersih untuk pengeluaran semikonduktor

Mon, 20 Jul 2026 09:48:06 +0800

Mengapa kita menggantikan kaedah pemanasan menggunakan udara bertekanan dengan kaedah pemanasan inframerah dalam sistem pemanas troli di bilik bersih
Jika anda pernah bekerja dalam proses pemprosesan semikonduktor yang kompleks, pasti anda tahu betapa menyusahkannya menunggu masa yang diperlukan untuk bahan tersebut dipanaskan. Ini merupakan halangan biasa dalam proses pengeluaran.

Kebanyakan sistem lama menggunakan udara panas untuk memanaskan bahan tersebut. Masalahnya ialah proses ini sangat lambat. Udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, kemudian udara tersebut akan memanaskan troli, dan akhirnya troli tersebut akan memanaskan bahan yang akan diproses. Ini bermakna perlu menunggu agak lama sebelum haba sampai ke tempat yang sepatutnya. Ini tentunya memperlambat keseluruhan proses pengeluaran.

Lampu inframerah yang dilapisi emas untuk kegunaan dalam semikonduktor

Sat, 18 Jul 2026 02:04:54 +0800

Cara untuk mengelakkan lampu daripada merosakkan wafer anda

Di kilang semikonduktor, kegagalan lampu merupakan masalah yang serius. Ia bukan sekadar menyebabkan mesin berhenti sebentar sahaja. Jika tiub kuarza pecah semasa operasi berintensiti tinggi, serpihan kaca dan habuk akan terpercik ke mana-mana. Ini akan menyebabkan kotoran pada wafer anda.

Kami telah mencipta lampu inframerah yang dilapisi emas untuk mencegah perkara ini daripada berlaku, sambil memastikan suhu yang diperlukan dapat dicapai.

Mengapa menggunakan emas?
Lampu kuarza biasa memancarkan haba ke semua arah – kebanyakan haba tersebut hilang begitu saja ke udara. Kami mengatasi masalah ini dengan menambah lapisan emas yang nipis pada permukaan tiub tersebut.

Lampu pemanas inframerah berasaskan semikonduktor

Fri, 26 Jun 2026 02:05:41 +0800

Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pemanasan bahan fotoresist, atau kelembapan yang tinggal selepas proses pembersihan, bukan sekadar mengganggu kelajuan pengeluaran sahaja. Ia juga akan mempengaruhi dimensi komponen elektronik tersebut dan merosakkan kualiti produk yang dihasilkan. Kami mencipta Lampu pemanas inframerah ini untuk memastikan kawalan suhu yang tepat, agar ia tetap berada dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.

Apa yang penting dalam reka bentuknya
Lampu ini menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek dengan elemen kuarsa yang memberikan tindak balas yang cepat. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan tepat, serta pemulihan suhu dalam masa beberapa saat sahaja. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan kebolehubahan suhu antara pelbagai kumpulan wafer juga sangat rendah. Reka bentuknya sesuai digunakan dalam bilik bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100, tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya dan dengan pelepasan gas yang minimum. Keluaran tenaga lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan variasi intensiti kurang dari 5%. Kontrol berbentuk lingkaran tertutup memastikan kawalan suhu yang tepat, dan saiz lampu yang kompak memudahkan pemasangan pada alat-alat baru.

Masa depan teknologi pemanasan semikonduktor

Tue, 02 Jun 2026 04:17:01 +0800

Di lantai litografi, soft bake dan hard bake bukan sekadar langkah. Ia adalah garisan antara corak yang berulang dan lot yang berakhir di dalam tong sampah. Perbezaan 2°C di seluruh wafer akan mengubah dimensi kritikal anda, dan penghasilan zarah semasa proses pembakaran akan menjejaskan hasil keluaran. Kami membina platform pemanasan near-infrared (NIR) kami untuk beroperasi dalam realiti tersebut.

Apa yang penting di sebalik teknologi

Kami menggunakan NIR untuk memacu tenaga terus ke substrat dengan cepat. Matlamatnya adalah keseragaman terma di peringkat wafer dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh permukaan pembakaran. Julat ketat ini memastikan aliran photoresist dan pelarut yang konsisten, yang membantu kawalan overlay dan dimensi kritikal (CD).