Mengapa kita beralih dari sistem pemanasan menggunakan udara bertekanan ke sistem pemanasan inframerah di alat pemanas di ruang bersih
Jika Anda pernah bekerja di bidang pemrosesan semikonduktor, pasti Anda mengenal betul frustrasi yang timbul akibat proses pemanasan yang lambat. Ini merupakan hambatan klasik dalam proses produksi semikonduktor.
Sebagian besar sistem pemanasan lama menggunakan udara panas untuk memanaskan benda yang akan diproses. Masalahnya adalah proses ini sangat lambat. Udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, lalu udara tersebut memanaskan alat pemanas, dan akhirnya alat pemanaslah yang memanaskan wafer. Proses ini membutuhkan waktu yang lama agar panas sampai ke tempat yang seharusnya. Hal ini tentu saja menghambat proses produksi secara keseluruhan.
Menghilangkan “perantara” dalam proses pemanasan
Sistem pemanasan inframerah mengubah cara kerja proses pemanasan tersebut. Alih-alih menggunakan udara, sistem ini menggunakan sinar inframerah untuk memanaskan benda secara langsung. Dengan demikian, tidak ada lagi proses penyebaran panas melalui udara.
Ketika kita beralih dari sistem pemanasan menggunakan udara bertekanan ke sistem pemanasan inframerah, waktu yang diperlukan untuk memanaskan benda berkurang drastis—dari menit menjadi detik saja. Di pabrik dengan kapasitas produksi tinggi, penghematan waktu ini sangat signifikan. Dengan demikian, lebih banyak wafer dapat diproses setiap shiftnya.
Menjaga kebersihan dan ketenangan di ruang bersih
Selain itu, sistem pemanasan inframerah juga membantu menjaga kebersihan dan ketenangan di ruang bersih. Sistem pemanasan menggunakan udara bertekanan justru menciptakan debu yang banyak, sehingga membutuhkan sistem filtrasi yang kompleks serta perawatan yang rutin.
Sistem pemanasan inframerah tidak menciptakan debu sama sekali. Tidak ada komponen yang bergerak, sehingga tidak ada fan yang bisa rusak atau filter yang bisa tersumbat. Selain itu, ukuran komponennya lebih kecil, sehingga ruang yang digunakan pun menjadi lebih efisien.
Keuntungan lainnya: densitas panas yang lebih tinggi
Dengan sistem pemanasan inframerah, kita dapat mengarahkan panas ke area tertentu pada alat pemanas. Hal ini mencegah wafer mengembang secara tidak merata, sehingga sangat membantu bagi mereka yang membutuhkan presisi yang tinggi dalam proses produksi.
Kekurangan sistem pemanasan inframerah
Namun, sistem pemanasan inframerah bukanlah solusi sempurna. Sistem ini membutuhkan garis pandang yang jelas agar sinar inframerah dapat mencapai setiap sudut alat pemanas. Jika bentuk alat pemanasnya aneh atau memiliki celah-celah yang dalam, maka sinar inframerah tidak akan dapat mencapai semua bagian alat pemanas tersebut. Akibatnya, akan terjadi daerah-daerah yang tidak terpanaskan.
Itulah mengapa kita tidak bisa langsung menggunakan sistem pemanasan inframerah begitu saja. Kita perlu memastikan posisi emitor sinar inframerah dengan tepat. Jika lampu pemanas berada terlalu dekat dengan benda yang dipanaskan, permukaan benda tersebut akan terbakar. Selain itu, diperlukan kontroler PID yang dapat bereaksi cepat, karena suhu dapat naik dengan cepat.